Annealsys RTP/RTCVD

บริษัท สยามอินเตอร์คอร์ป (ประเทศไทย) จำกัด ตัวแทนจำหน่ายอย่างเป็นทางการสำหรับผลิตภัณฑ์ ANNEALSYS ในประเทศฝรั่งเศส และได้กลายเป็นผู้นำในด้านการพัฒนาและผลิตเครื่องมือที่ใช้ในการทำ annealing สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และวัสดุขั้นสูง ด้วยเทคโนโลยีที่ล้ำสมัยและความเชี่ยวชาญเฉพาะทาง ได้นำเสนอผลิตภัณฑ์ที่หลากหลาย เช่น เครื่องทำความร้อนแบบฟิล์มบาง (Thin Film Deposition Systems) และเครื่อง annealing แบบอัตโนมัติ ซึ่งช่วยในการปรับปรุงคุณสมบัติของวัสดุ และเพิ่มประสิทธิภาพในกระบวนการผลิตต่าง ๆ

ANNEALSYS มุ่งมั่นที่จะสนับสนุนการวิจัยและพัฒนาในสาขาเทคโนโลยีใหม่ ๆ โดยเฉพาะในด้านอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และนวัตกรรมวัสดุ โดยใช้เทคโนโลยีที่มีคุณภาพสูงและมีความแม่นยำ เพื่อให้สามารถตอบสนองความต้องการของลูกค้าในตลาดที่มีการแข่งขันสูงได้อย่างมีประสิทธิภาพ

สนใจสินค้า / สอบถามเพิ่มเติม / ขอรายละเอียดสินค้าเพิ่มเติม

สำนักงานโทร. 0-2886-7834 , 0-2886-7835
Line @ : @siamintercorp (มีเจ้าหน้าที่รอตอบตลอด ในวันทำการ)

Annealsys Rapid Thermal Processing (RTP) furnaces can address various applications with an extended temperature range and vacuum capability.

The infrared lamp furnaces can perform annealing up to 1450°C and for duration up to 1 hour at 1200°C. The high temperature Zenith system can run process at 2000°C for 1 hour.

Applications include Rapid Thermal Annealing (RTA) processes like ohmic contact annealing and implantation annealing as well as Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition (RTCVD) of graphene or hexagonal Boron Nitride (h-BN).

These versatile RTP systems can process samples from few mm up to 200 mm diameter with manual loading or cassette to cassette robot handling for production, including customized solutions for processing compound semiconductor wafers with susceptors.