เวลาทำการ: จันทร์-ศุกร์ เวลา 09:00-17:30 น.

!!   รู้ลึก  รู้จริง เรื่องเครื่องมือทดสอบวัสดุ  !  ยืน 1 เรื่องมาตรฐานการให้บริการ   

เครื่องอบความร้อนอย่างรวดเร็ว (AS-Premium  Rapid thermal processing system with square chamber) ยี่ห้อ ANNEALSYS
เป็นอุปกรณ์ที่ใช้สำหรับ การอบร้อนชิ้นงาน ด้วยความเร็วสูง โดยเฉพาะชิ้นงานที่มีขนาดเล็กและมีความละเอียดสูง เช่น ชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ เซมิคอนดักเตอร์ หรือวัสดุอื่นๆ ที่ต้องการกระบวนการทางความร้อนที่แม่นยำและรวดเร็ว
*ราคาอาจมีการเปลี่ยนแปลงตามอัตราแลกเปลี่ยน โปรดสอบถาม Line : @siamintercorp

แท็ก:

05 พฤศจิกายน 2567

ผู้ชม 9 ผู้ชม

The AS-Premium double side heating has been developed for annealing compound semiconductor wafers using silicon carbide coated susceptors.

  • Rapid Thermal Annealing (RTA)
  • Implant annealing
  • Contact annealing (III-V and SiC)
  • Rapid Thermal Oxidation (RTO)
  • Rapid Thermal Nitridation (RTN)
  • Annealing of piezoelectric and pyroelectric materials
  • Getter activation
  • Rapid Thermal Evaporation (RTE)
  • Selenization (CIGS solar cells)
  • Sol-gel densification and crystallization
  • Etc.

The AS-Premium reactor with the loadlock and turbo pumps provide oxygen free environment for silicon smoothening and other oxygen sensitive processes.

The Annealsys AS-Premium system can process samples up to 150 mm diameter or 156x156 mm² .

The reactor platform and the machine have been designed to accommodate a wide range of configurations to meet customers’ requirements in terms of process.

The chamber can receive a single side or a double side lamp heating furnace. The design of the process chamber allows manual loading and the connection to a cluster tool or a glove box (options).

Pyrometer and thermocouple temperature control are standard features. The fast digital PID temperature controller provides high temperature reproducibility.

Graphite and silicon carbide coated graphite susceptors are available for processing of samples with encapsulation.

The furnace provides the highest ramp rate up to 250°C/s for 2-inch wafers

  • Temperature range: RT to 1250°C
  • Ramp rate up to 250°C/s on 2-inch diameter silicon substrate, 200°C/s on 3-inch
  • Gas mixing capability with mass flow controllers
  • Vacuum range: Atm to 10-2 Torr (10-6 Torr with optional turbo pump)
  • Thermocouple temperature control with fast digital PID temperature controller
  • Optional pyrometer control
  • Full PC control with Windows compatible software

The AS-Premium chamber can be provided with manual loading, loadlock loading or cassette to cassette loading including vacuum cluster tool.

  • Furnace and loading configurations
  • Graphite and silicon carbide coated susceptors
  • Rough vacuum pump and turbo pump, turbo pump
  • Automatic pressure control with throttle valve
  • Fast cooling system

Product Brochure
Product Brochure

Engine by shopup.com